DM-氧化鉿顆粒99.99%_18*10mm圓片_HfO2蒸發料_蒂姆新材料
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| 產品單價: |
詢價 |
| 起訂件數: |
1 件 |
| 供貨總量: |
10000 件 |
| 所在產地: |
北京 |
| 有效期至: |
長期有效 |
| 最后更新: |
2021-07-31 01:09 |
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詳情介紹
二氧化鉿(分子式:HfO2)      
品類 主要尺寸  顏色 純度 包裝 保存方式
晶體 顆粒 1-3 mm;3-5 mm 透明 99.99% 1公斤/袋 避光避酸干燥保存
燒結 壓片 Ф10mm或顆粒 白色   
產品參數:      
CAS編號 密度(g/cm3) 熔點(℃) 折射率(550nm) 透明波度(μm) 蒸發源 
12055-23-1 9.7 2812℃ n=2 0.2~9μ B(W),E 
用途 UV增透膜,干涉膜;適于電子槍蒸發,成膜致密穩定。紫外波段的優良材料。     
備注 規格可根據具體要求定制     
氧化鉿,二氧化鉿 HFO2 氧化鉿 鉿氧化物 光學鍍膜材料,二氧化鉿顆粒 高純二氧化鉿燒結
化學符號:HfO2
外觀:白色
分 子 量:210.49
密度:9.7g/cm3
熔點:2500℃
折 射 率(波長/nm):1.9-2.1(300)
1.84-2.0(2500)
沸點:5400℃
線膨脹系數:5.8×10-6/℃(250-1300)
10ˉ4真空下蒸發溫度為:2500℃
蒸發方式:電子束
透明波段/nm:235-2500
介電常數:20.5-23
比容:0.05μF/cm2
電容溫度系數TCC:(1.25~2.50)×10-4/℃
性 能:適于電子槍蒸發,成膜致密穩定。紫外波段的優良材料。不溶于水,耐化學性質,但在高溫下能與氫氧化物起反應,膜堅硬;
應 用:主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近紅外多層膜。
HfO2薄膜是一種絕緣氧化物,即可做薄膜電阻,又可做介子薄膜,一般用濺射法沉積制備。
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