北京高純99.99三氧化二鋁AL2O3 納米氧化鋁光學鍍膜材料氧化鋁
氧化鋁粒，三氧化二鋁顆粒 三氧化二鋁純度99.99％，高純鋁顆粒，高純鋁片，AAO專用鋁箔片
化學符號：Al2O3
外 觀:透明
規格：1-3Mm
純度：4N
密度：4g/cm3
熔點：2045℃
沸點：2980℃
蒸發溫度：1800℃
蒸發方式：電子束
透明范圍/nm：200-7000
折射率n（波長/nm）：1.59(600)/1.56(1600)
基片溫度為300℃時，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；
基片溫度為40℃時， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；
蒸發源材料:W 、Mo
溶 解 于：純酸、堿
薄膜的機械和化學性質：形成光滑的硬膜
性能：高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高強度、抗磨損、抗氧化、絕緣性好和表面積大等特點；不溶于水，微溶于強酸和強堿溶液，并能被氫氟酸和硫酸氫鉀浸蝕；
高純超細氧化鋁的優點：純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結；
應用：增透膜，多層膜，防反膜，眼鏡膜，保護膜
用途：廣泛應用于生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、集成電路芯片、航空光源器件、濕敏性傳感器及紅外吸收材料；
Al2O3膜的主要性能：
密度/g？cm-3:3.1-4.0
電 阻 率/Ω？cm：1012-1013
折 射 率：1.72-1.76
禁帶寬度eV：7
介電常數：7.5-9.6
產生龜裂厚度/μm:0.4
介電強度/V？cm-1:1×106-7×106
表面負電荷密度：3×1011-1012
紅外吸收峰/μm:14-16
Al2O3-Si界面密度/（cm2？eV）-1: 1010-1011
Al2O3分析報告:
MnCr Pb Ni V Nb
0.003 0.001 0.001 0.001 0.001 0.0001
CoTa
0.001 0.001
二，主要產品
1.鋁靶材99.99％~99.999％
常規尺寸：φ25.4*4mm；φ50.8*3Mm；φ76.2*5mm；φ100*3Mm，尺寸可定做
應用：磁控濺射鍍膜，MEMS集成電路、LED封裝等
2.鋁顆粒99.99％~99.999％
常規尺寸：5N 3*3Mm；4N 6*6mm，尺寸可定做
應用：蒸發鍍膜，合金熔煉，鋼鐵除氧劑等
3.鋁箔片99.99％~99.999％
常規尺寸：厚度0.01mm；0.2mm等，尺寸可定做
應用：AAO陽極氧化鋁，鍍膜等
4.鋁粉末99.7％~99.8％
常規尺寸：100目；-300目；325目；尺寸可定做
應用：粉末冶金等